新顔半導体セクター。
新ネタの本尊は、ウェハーに回路を焼き付ける工程で用いる露光装置。
製品の世界的なシェアは蘭ASMLホールディング、キヤノン、ニコン3社による寡占で現状はASLMが8割のシェアを持つ。
EUV(極端紫外線)は先端半導体の超微細な回路パターンを描くことが可能で、1台数あたり百億円と高額。
ここでシェアを伸ばしているキャノンは需要増を受けて総額500億円を投じた露光装置の新工場を作り2025年の倍増計画を上げた。
パワー半導体やアナログ半導体の需要は依然として旺盛で同社が手掛けるi線やフッ化クリプトン(KrF)露光装置の販売も増加。
新工場の建設で2拠点を合わせ生産能力を二倍に上げると言う。
更に将来的には次世代装置と位置付ける「ナノインプリント装置」の生産も視野に、ナノインプリントは3次元(3D)の回路パターンを形成した原版(マスク)をウエハー上にある感光材の液体樹脂に押しつけながら光を当て、ハンコを押すように回路を転写する。
実用化されれば製造コストや消費電力の抑制につながると期待は大きい、過去には日本の半導体は世界でもトップシェアだったが海外勢にその座を奪われていたがここにきて政府の支援もあり日本各地に大手が軒並み半導体に攻勢を仕掛けている。
メイドインジャパン半導体の復活と共に。
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